美BIS管制新规使华为面临新挑战:不能设计芯片,无法生产芯片

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5月16日(美东时间15日),美国工业与安全局(BIS)宣布将修改出口管制规定,限制华为使用美国技术和设备在海外设计和制造半导体的能力。新规的出台,等于美加大了打击华为的烈度和覆盖面,对华为来说,整个企业又走到生死存亡的关键时刻。早在2020年2月26日,路透社的消息就已经透露出美国制裁华为的新一轮暴风雨即将来临。报道称,美国政府内阁高级官员同意采取新措施,限制华为芯片全球供应链,其中可能包括一些关键的产业链厂商,主要是通过限制使用美国技术、零件的外国供应商来实现,台积电很有可能位列其中。在2020年3月31日的华为年度报告会上,华为轮值董事长徐直军就直言,2020年才是华为最困难的一年。显然,华为对此已有所预计。两个月后,美BIS的出口管制靴子落地,其打击烈度比路透社透露的信息只重不轻。2019年5月出台“实体清单”,仅剥离了华为的美国供应链(不能购买美国企业的产品和技术),新规却要打算强力切割华为和美国技术的联系,管制范围从美国企业扩大到全球企业,意在使华为不能设计芯片,不能让代工厂给华为生产芯片。如果新规全面实施,台积电、三星都不能为华为代工生产芯片,最新的麒麟1020(麒麟990换代产品)将面临无晶圆厂能代工的局面。即使刚刚接到华为麒麟710A的中芯国际,也在限制之列。中芯国际最新财报显示,2019年3月12日至2020年2月17日,公司向美国泛林采购了总价约6亿美元(约41亿元人民币)的半导体设备,用于扩大14nm制程工艺的生产。而麒麟710A采用的正是14nm制程工艺,中芯国际这笔采购,显然是为了麒麟710A的订单准备的。但新禁令出台后,意味着中芯国际不能生产麒麟710A,而且公司的14nm制程工艺丢失华为订单后,整个公司的工艺升级也将受到影响。那么,能否用国产光刻机生产华为芯片呢?答案是不能。目前我国能自主生产光刻机的厂商有上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)和中国电科(CETC)旗下的电科装备,其中,SMEE是国内领先的光刻机研制生产单位,其量产的技术最先进的光刻机分辨率最高为90nm,而华为最先进的芯片需要匹配的工艺制程是5nm,两者相差太大。这就意味着,禁令出台后,华为的中高端芯片麒麟7系、8系和旗舰9系芯片将无代工厂生产,华为手机业务最终面临无芯可用,全面停摆。不止手机业务遭受重击,华为通信业务也将受到牵连。华为现有的巴龙基带芯片的制程工艺最高可到7nm,依靠台积电代工。基带芯片不能生产的话,华为的5G设备也将面临无芯可用局面。由于华为的5G设备在三大通信运营商的采购比例在50%左右,结果将使国内的5G建设进度受累,影响到“新基建”产业的实施。如果华为芯片无法生产,能否通过卖芯片设计获取生存空间呢?这个希望也很渺茫,因为海思半导体设计芯片使用的EDA软件,是美国公司的产品,也在管制之列。总之,美国这次针对华为出台的出口管制措施,将使华为无法设计芯片,无代工厂生产芯片,整个企业面临生死存亡考验,同时中国的5G产业也面临挑战。下一步要看我们如何反击,看能否迫使美方有所收敛。

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